基板处理装置制造方法及图纸

一种基板处理装置，包括：涂布膜形成单元，具有涂布室，且在所述涂布室内部对基板的表面涂布表面张力比水小的低表面张力液体以形成涂布膜；升华单元，具有升华室，且在所述升华室内部使形成于所述基板的表面的涂布膜升华；减压单元，将所述升华室内部减压至比大气压低的压力；主搬运单元，将基板搬入所述涂布室；局部搬运单元，从所述涂布室向所述升华室搬运基板；以及涂布膜状态保持单元，用于在所述局部搬运单元从所述涂布室向所述升华室搬运所述基板的期间保持所述涂布膜的状态。

Substrate Processing Unit

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板处理装置
本专利技术涉及一种干燥基板的表面的基板处理装置。在成为处理对象的基板中，例如包括有半导体晶片(wafer)、液晶显示设备用基板、等离子显示器(plasmadisplay)用基板、FED(FieldEmissionDisplay；场发射显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、磁光盘用基板、光罩(photomask)用基板、陶瓷(ceramic)基板、太阳能电池用基板等的基板。
技术介绍
在半导体装置等的制造工序中，使用于处理液来处理基板的基板处理装置。这样的基板处理装置，例如是包括对基板供给处理液之后使基板干燥的处理单元。典型的处理单元包括：旋转夹盘(spinchuck)，保持基板并使基板旋转；药液喷嘴，对基板供给药液；以及冲洗液喷嘴(rinseliquidnozzle)，对基板供给冲洗液。这样的处理单元，执行药液工序、冲洗工序及旋转干燥工序。在药液工序中，从药液喷嘴对由旋转夹盘所旋转的基板的表面供给药液。在冲洗工序中，停止供给药液，且从冲洗液喷嘴对由旋转夹盘所旋转的基板的表面供给冲洗液，由此，使基板上的药液置换成冲洗液。在旋转干燥工序中，停止供给冲洗液，且用旋转夹盘使基本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理装置，其中，包括：涂布膜形成单元，具有涂布室，且在所述涂布室内部对基板的表面涂布表面张力比水小的低表面张力液体以形成涂布膜；升华单元，具有升华室，且在所述升华室内部使形成于所述基板的表面的涂布膜升华；减压单元，将所述升华室内部减压至比大气压低的压力；主搬运单元，将基板搬入所述涂布室；局部搬运单元，从所述涂布室向所述升华室搬运基板；以及涂布膜状态保持单元，用于在所述局部搬运单元从所述涂布室向所述升华室搬运所述基板的期间保持所述涂布膜的状态。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.02.28 JP 2017-0371131.一种基板处理装置，其中，包括：涂布膜形成单元，具有涂布室，且在所述涂布室内部对基板的表面涂布表面张力比水小的低表面张力液体以形成涂布膜；升华单元，具有升华室，且在所述升华室内部使形成于所述基板的表面的涂布膜升华；减压单元，将所述升华室内部减压至比大气压低的压力；主搬运单元，将基板搬入所述涂布室；局部搬运单元，从所述涂布室向所述升华室搬运基板；以及涂布膜状态保持单元，用于在所述局部搬运单元从所述涂布室向所述升华室搬运所述基板的期间保持所述涂布膜的状态。2.如权利要求1所记载的基板处理装置，其中，所述涂布膜形成单元包括：基板保持单元，水平保持基板；液体供给单元，对由所述基板保持单元所保持的基板供给低表面张力液体；以及冷却固化单元，在低表面张力液体从所述液体供给单元供给至基板之后，开始基板的冷却，使所述低表面张力液体冷却至低于熔点的温度，形成由所述低表面张力液体的固体构成的所述涂布膜。3.如权利要求2所记载的基板处理装置，其中，所述涂布膜状态保持单元包括液化阻止单元，所述液化阻止单元阻止所述基板上的涂布膜从固体回到液体。4.如权利要求3所记载的基板处理装置，其中，所述液化阻止单元包括冷却维持单元，所述冷却维持单元将所述基板上的涂布膜维持于所述低于熔点的温度。5.如权利要求4所记载的基板处理装置，其中，所述冷却维持单元包括机械臂冷却单元，所述机械臂冷却单元冷却所述局部搬运单元的搬运机械臂。6.如权利要求2～5中任意一项所记载的基板处理装置，其中，所述涂布膜状态保持单元包括升华阻止单元，所述升华阻止单元阻止所述基板上的涂布膜升华。7.如权利要求2～6中任意一项所记载的基板处理装置，其中，所述冷却固化单元，使由所述基板保持单元保持的所述基板，接触所述低表面张力液体的低于熔点的流体。8.如权利要求2～6中任意一项所记载的基板处理装置，其中，所述冷却固化单元包括冷却板，所述冷却板接触或接近由所述基板保持单元保持的所述基板的下表面，以冷却该基板。9.如权利要求2～6中任意一项所记载的基板处理装置，其中，所述冷却固化单元包括液态氮供给单元，所述液态氮供给单元对由所述基板保持单元保持的所述基板供给液态氮。10.如权利要求2～9中任意一项所记载的基板处理装置，其中，所述液体供给单元包括低表面张力液体供给配管，所述低表面张力液体供给配管可供所述低表面张力液体流通，且具有朝向所述基板的表面喷出所述低表面张力液体的喷出口；所述涂布膜形成单元还包括低表面张力液体温度调节单元，所述低表面张力液体温度调节单元将所述低表面张力液体供给配管的配置于所述涂布室内部的部分，调节至所述低表面张力液体的熔点以上的温度。11.如权利要求2～10中任意一项所记载的基板处理装置，其中，所述涂布膜形成单元包括：喷出口，将所述低表面张力液体向所述基板的表面喷出；以及喷出口高度调整单元，调整所述喷出口距离所述基板的高度。12.如权利要求2～11中任意一项所记载的基板处理装置，其中，所述涂布膜形成单元包括：喷出口，将所述低表面张力液体向所述基板的表面喷出；以及基板温度调整单元...

【专利技术属性】
技术研发人员：尾辻正幸，桥本光治，高桥光和，本庄一大，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本,JP