温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本文描述了用于图案化非挥发性金属的室，具体描述了适于在多种压强状态下蚀刻衬底的装置。装置包括处理室，处理室包括能够定位在升高位置或降低位置的能移动基座，喷头和任选的等离子体发生器。装置可适于在能移动基座处于降低位置时使用处理来蚀刻非挥发性金...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。