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OPC修正方法及OPC修正系统技术方案
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文档序号:21713212
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本发明提供了一种OPC修正方法及一种OPC修正系统,所述OPC修正方法包括:提供待修正的版图图形的集成电路版图以及亚分辨率辅助图形与待修正的版图图形之间的最小间距;选择待修正的版图图形中的若干个作为目标图形,目标图形之间具有冲突区;将目标图...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。
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