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量测设备、光刻系统和测量结构的方法技术方案
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文档序号:21693538
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公开了用于测量通过光刻过程在衬底上形成的结构的量测设备和方法。在一种布置中,光学系统利用辐射照射所述结构并检测被所述结构散射的辐射。光学系统包括第一发散元件(121)。第一发散元件使仅仅来自光瞳平面场分布的第一部分(41)的散射辐射沿着第一...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。
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