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本公开内容提供了一种用于在基板(10)上进行层沉积的设备(100)。所述设备(100)包括：真空腔室(101)；至少一个溅射源(110)，所述至少一个溅射源(110)在所述真空腔室(101)中，其中所述至少一个溅射源(110)包括可旋转的柱...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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