下载一种改善HCD炉管硅片间均匀性差异的装置的技术资料

文档序号:21496768

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型公开了一种改善HCD炉管硅片间均匀性差异的装置,包括:炉管;环形晶舟,炉管的内部自上而下设有若干环形晶舟;若干环形晶舟的高度不同;通过调整若干环形晶舟的高度以调整参与反应气体的量,从而补偿硅片面内厚度差异。本实用新型通过调整若干环...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。