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本实用新型公开了一种电镀装置及其阳极组件。其中，所述阳极组件包括若干阳极本体；当给所述阳极组件供电时，所述若干阳极本体互不导通。本实用新型可对一次或多次电镀后电镀层不均匀的情况进行修正，以提高电镀层的均匀性，以及电镀工艺的稳定性。...
该专利属于新阳硅密（上海）半导体技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过新阳硅密（上海）半导体技术有限公司授权不得商用。

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