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本申请涉及非线性光学晶体的钝化。供在检查工具中使用的非线性光学晶体的钝化包含：在存在氟、氟化物离子及含氟化物化合物中的至少一者的情况下生长非线性光学晶体；机械地制备所述非线性光学晶体；对所述非线性光学晶体执行退火过程；及将所述非线性光学晶体...
该专利属于科磊股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过科磊股份有限公司授权不得商用。

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