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本发明涉及溅射阴极、溅射装置和成膜体的制造方法。溅射阴极具有溅射靶，所述溅射靶具有横截面形状具有相互相对的一对长边部的管状的形状且侵蚀面朝向内侧。使用该溅射阴极，在由溅射靶包围的空间的上方，使具有宽度比溅射靶的长边部窄的成膜区域的被成膜体与...
该专利属于京浜乐梦金属科技株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过京浜乐梦金属科技株式会社授权不得商用。

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