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本发明公开了用于先进的集成电路结构制造的鳍切口和鳍修整隔离。本公开的实施例属于以下的领域：先进的集成电路结构制造，并且具体为10纳米节点以及更小的集成电路结构制造和所得到的结构。在示例中，一种集成电路结构包括鳍。第一隔离结构将所述鳍的第一部...
该专利属于英特尔公司所有，仅供学习研究参考，未经过英特尔公司授权不得商用。

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