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一种形成集成电路的方法包含：在半导体衬底上形成导电网格；根据指派给多个第一导线的第一掩模层而从多个非连续导线选择所述多个第一导线；根据指派给多个第二导线的第二掩模层而从所述多个非连续导线选择所述多个第二导线，其中所述第二掩模层不同于所述第一...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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