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本申请提供一种集成电路版图设计优化方法和系统中，其中，所述优化方法包括：获取版图数据和仿真激励，从而判断是否存在待调节性能的晶体管，若有，则调节与所述待调节性能的晶体管的栅极相邻的栅极端对端距离；和/或，调节所述待调节性能的晶体管的栅极上覆...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。

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