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一种掺杂PbSe量子点的光敏聚合物有源层薄膜制备方法技术
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下载一种掺杂PbSe量子点的光敏聚合物有源层薄膜制备方法的技术资料
文档序号:21037891
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本发明设计了一种掺杂PbSe量子点的光敏聚合物有源层薄膜制备方法,在Si/SiO2衬底(1)上利用旋涂法制备有源层(2)薄膜,且有源层(2)选用具有光敏特性的聚合物材料PTB7(3)作为有源层材料,并掺入水热法制成的PbSe量子点(4)改善...
该专利属于长春工业大学所有,仅供学习研究参考,未经过长春工业大学授权不得商用。
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