温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种用于4H碳化硅晶片的抛光液，包括以下重量份原料：纳米二氧化硅20‑40份，聚乙二醇1‑5份，立方碳化硼1‑5份，单晶金刚石1‑5份，土槿皮酸0.5‑2.5份，苯扎氯铵1‑6份，硬脂酸丁酯5‑10份，PH调节剂0.5‑2.5份...
该专利属于天津洙诺科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过天津洙诺科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。