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本发明涉及一种掩模清洗装置以及掩模清洗方法，其能够清洗残留在有机发光装置用金属掩模表面上的有机物。所述掩模清洗装置可以包括：真空腔室，在内部形成有能够收纳掩模的收纳空间，并且在内部形成真空环境，从而易于去除残留在所述掩模上的有机物；第一清洗...
该专利属于株式会社达文希斯所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社达文希斯授权不得商用。

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