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本申请公开了一种3D存储器件。该3D存储器件包括：栅叠层结构，所述栅叠层结构包括交替堆叠的多个栅极导体和多个层间绝缘层；多个沟道柱，所述沟道柱贯穿所述栅叠层结构以形成晶体管；以及多个伪沟道柱，所述伪沟道柱贯穿所述栅叠层结构中的至少部分所述栅...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。

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