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半导体器件制造技术
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文档序号:20946376
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提供了一种半导体器件,其包括:衬底,其包括构造为在彼此垂直的第一方向和第二方向上延伸的顶表面;栅极堆叠结构,其设置在衬底上,在第一方向上彼此间隔开,并构造为在第二方向上延伸;第一区域,栅极堆叠结构的顶表面的水平在第一区域中是恒定的;第二区域...
该专利属于三星电子株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三星电子株式会社授权不得商用。
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