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半导体器件及其制造方法。一种半导体器件包括：空穴源图案；位于相邻的空穴源图案之间的电子源图案；在空穴源图案和电子源图案上方的层叠结构；以及穿透层叠结构的沟道层，其中，各个沟道层与对应空穴源图案以及与所述对应空穴源图案相邻的电子源图案接触。...
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