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一种高维持电压NLDMOS及其制作方法技术
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文档序号:20923080
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本发明提供一种高维持电压NLDMOS,包括:高压P阱和位于其两侧的第一、第二N漂移区;形成于高压P阱中、第一、第二N漂移区之间的P型阻挡层;在第一、第二N漂移区中分别形成的N+注入区分别作为源极和漏极;浅沟道隔离区,其位于第二N漂移区靠近源...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。
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