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半导体功率元件制造技术
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文档序号:20799612
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本发明公开一种半导体功率元件,其包含︰一基板;一位于基板上的缓冲结构;一位于缓冲结构上的背阻挡结构;一位于背阻挡结构上的通道层;以及一位于通道层上的阻挡层;其中背阻挡结构包含一第一功能层、一第一背阻挡层以及一中间层,第一功能层位于缓冲结构上...
该专利属于晶元光电股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过晶元光电股份有限公司授权不得商用。
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