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半导体结构的表面修正结构以及修正方法技术
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文档序号:20684809
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本申请公开了一种半导体结构的表面修正结构以及修正方法,该半导体结构的表面修正结构包括:背膜,所述背膜位于半导体结构的表面并与之邻接;以及应力层,所述应力层与所述背膜邻接。该修正结构为后续的覆盖层提供了平整的表面,适用于各种方向性的表面翘曲,...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有,仅供学习研究参考,未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。
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