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本公开内容提供了一种用于在真空沉积工艺中保持基板(10)或掩模的设备(100)。所述设备(100)包括：一个或多个第一电极和一个或多个第二电极，可连接到第一电源组件(230)；和一个或多个第三电极，布置在所述一个或多个第一电极与所述一个或多...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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