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一种半导体器件及其制造方法技术
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文档序号:20567936
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本发明提供一种半导体器件及其制造方法,在衬底中形成了贯通衬底的绝缘环,绝缘环内的衬底作为电容结构的第一极板,在第一极板中形成了贯通的通孔,贯通的通孔的侧壁上形成有介质层且填充有导电层,进而通过引出结构将第一极板引出,以及通过第二引出结构电连...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有,仅供学习研究参考,未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。
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