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包括离子注入遮挡结构的晶圆支撑组件及半导体处理设备制造技术
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下载包括离子注入遮挡结构的晶圆支撑组件及半导体处理设备的技术资料
文档序号:20450281
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本申请公开了一种晶圆支撑组件和半导体处理设备。该晶圆支撑组件可以包括晶圆卡盘,所述晶圆卡盘包括第一表面和第二表面,其中,所述第一表面可以具有中央区域和边缘区域,所述中央区域被构造为在离子注入晶圆期间承托所述晶圆,所述边缘区域围绕所述中央区域...
该专利属于三星电子株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三星电子株式会社授权不得商用。
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