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本申请公开了一种刻蚀方法，该刻蚀方法在采用干法刻蚀工艺去除掉沟道孔底部的保护层之后，采用湿法腐蚀工艺或气体刻蚀工艺去除沟道孔底部的存储器层，因湿法腐蚀工艺具有各向同性的特点，因此，在湿法去除沟道孔底部的存储器层时，湿法腐蚀工艺不仅会沿着沟道...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。

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