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本发明公开了一种多版并列光刻的排版系统，该系统包括：阵列光源，所述阵列光源设置在竖直板上；排版装置，所述排版装置包括排架、安装在所属排架上的与所述阵列光源一一对应的反射单元，所述反射单元中设置有反射镜、开闭装置，所述排架上连接有滑轨，所述滑...
该专利属于上海理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过上海理工大学授权不得商用。

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