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一种半导体结构及其形成方法，其中，形成方法包括：提供基底，基底表面具有堆叠层；去除部分堆叠层，形成贯穿堆叠层的沟道孔和位于沟道孔底部基底内的凹槽，所述凹槽底部具有第一碎晶层和位于第一碎晶层表面的第一氧化层，第一碎晶层与基底的晶格结构不同；利...
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