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本发明涉及光刻技术领域,更具体地说,它涉及一种双工位旋转载片装置及应用其的光刻机,其方案要点是:一种双工位旋转载片装置,其包括机架,机架上设有旋转台、第一驱动机构和顶出机构;旋转台上设有两个以上的活动载片台;旋转台用于受驱动带动活动载片台中...该专利属于深圳市矽电半导体设备有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳市矽电半导体设备有限公司授权不得商用。
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