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一种方法，包括通过使用衬底测量方案从衬底上目标获得测量结果；由硬件计算机系统根据测量结果确定参数，其中对于衬底测量方案中所使用的入射辐射，参数表征测量结果对于目标的光程长度的依赖性，以及确定参数包括确定测量结果对于入射辐射的波长的相对变化的...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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