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本发明涉及化学放大型负性光致抗蚀剂组合物，更详细地说，公开了包含特定有机酸添加物，因此相比于现有的负性光致抗蚀剂改善短波长曝光光源中的工艺裕度，适合应用于半导体工艺的化学放大型负性光致抗蚀剂组合物。...
该专利属于荣昌化学制品株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过荣昌化学制品株式会社授权不得商用。

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