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超结器件及其制造方法技术
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文档序号:20008833
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本发明公开了一种超结器件,设置有环绕在电荷流动区周侧的保护环氧化膜,过渡区中接触孔的高宽比大于等于电荷流动区中接触孔的高宽比,采用钨塞工艺填充同时实现不同高宽比的接触孔的可靠填充,P型阱的宽度小于P型柱的宽度,在P型阱和N型区域之间形成缓变...
该专利属于深圳尚阳通科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳尚阳通科技有限公司授权不得商用。
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