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本发明公开了一种CMP晶圆清洗设备，包括依次排列的清洗输入单元、兆声清洗单元、第一刷洗单元、第二刷洗单元、甩干单元，传输机械手和翻转机械手位于清洗设备的上方，传输机械手包括水平运动轴、垂直运动轴和晶圆抓取装置，可将晶圆在所述单元之间传输，翻...
该专利属于杭州众硅电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过杭州众硅电子科技有限公司授权不得商用。

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