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本发明公开了一种CrB2涂层的制备方法。采用直流磁控溅射法，设计靶源磁场由位于靶面底部的环形磁铁与直线型磁铁组成，通过对靶源磁场的设计，使靶面不同位置具有不同的磁场强度，并对应的放置一系列样品，在各样品表面沉积CrB2涂层，然后对各涂层进行...
该专利属于中国科学院宁波材料技术与工程研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院宁波材料技术与工程研究所授权不得商用。

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