一种CrB2涂层的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种CrB2涂层的制备方法。采用直流磁控溅射法，设计靶源磁场由位于靶面底部的环形磁铁与直线型磁铁组成，通过对靶源磁场的设计，使靶面不同位置具有不同的磁场强度，并对应的放置一系列样品，在各样品表面沉积CrB2涂层，然后对各涂层进行性能检测，得到与所需CrB2涂层性能最接近的CrB2样品涂层，该样品在样品架上的放置位置即为待沉积基体的放置位置，从而实现所需性能涂层的制备。

Preparation of a CrB2 Coating

The invention discloses a preparation method of CrB2 coating. Using DC magnetron sputtering method, the target source magnetic field is designed to consist of annular magnet and linear magnet located at the bottom of the target surface. Through the design of the target source magnetic field, the target surface has different magnetic field intensity at different locations, and a series of samples are placed correspondingly. CrB2 coatings are deposited on the surface of each sample. Then the performance of each coating is tested, and the performance of the coatings is the closest to that of the required CrB2 coatings. The position of the sample on the sample holder is the place of the substrate to be deposited, thus realizing the preparation of the required performance coating.

【技术实现步骤摘要】
一种CrB2涂层的制备方法
本专利技术属于表面强化
，尤其涉及一种CrB2涂层的制备方法。
技术介绍
CrB2是一种六方结构相，由于B在Cr基中形成二维网状结构，且与Cr原子面层叠分布，形成了具有强方向性的B-B共价键和Cr-B离子键。使其具有高熔点、高硬度、耐蚀性、热稳定性和化学惰性等特点。Cr-B体系中间相复杂多样，成相区狭窄、熔点高，这都给CrB2涂层制备带来很大的挑战。由于磁控溅射技术非常适合制备高熔点亚稳相，因此可以有效解决这些问题，制备出具有优异性能的CrB2涂层。目前对CrB2涂层的研究主要集中于制备技术对涂层的影响，如脉冲磁控溅射、电感耦合磁控溅射、高功率脉冲磁控溅射等，以及工艺参数对涂层的影响，如基体偏压、脉冲频率、占空比、靶基距、温度等。从已有结果可知，不同的制备技术和工艺参数能对涂层的结构和性能造成较大影响。通过对制备技术以及工艺参数的调控可以影响涂层的择优取向和组织结构，制备出兼备强韧以及具有优异耐蚀性能的CrB2涂层。磁场在磁控溅射中扮演着非常重要的作用，但是截至目前调控磁场对CrB2涂层结构性能的影响还未见报道。
技术实现思路
本专利技术的技术目的是提供本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种CrB2涂层的制备方法，以氩气作为溅射气体，采用直流磁控溅射方法在基体表面沉积CrB2涂层；其特征是：磁控靶材为CrB2靶材，靶面平整，靶面底部设置磁场；所述磁场由位于靶面底部的环形磁铁与直线型磁铁组成，直线型磁铁位于环形磁铁内部并且平行于环形磁铁；沿着所述环形磁铁的环形方向，所述环形磁铁的磁场强度相等；沿着所述直线型磁铁的长度方向，所述直线型磁铁的磁场强度自中间向两边逐渐减小；所述制备方法包括如下步骤：(1)准备若干尺寸相同的基体样品，将各样品放置在样品架上，各样品表面位于同一平面并且各样品表面平行于所述靶面；并且，各样品正对所述直线型磁铁，形成直线排列；(2)开启直流磁控溅射设备，...

【技术特征摘要】
1.一种CrB2涂层的制备方法，以氩气作为溅射气体，采用直流磁控溅射方法在基体表面沉积CrB2涂层；其特征是：磁控靶材为CrB2靶材，靶面平整，靶面底部设置磁场；所述磁场由位于靶面底部的环形磁铁与直线型磁铁组成，直线型磁铁位于环形磁铁内部并且平行于环形磁铁；沿着所述环形磁铁的环形方向，所述环形磁铁的磁场强度相等；沿着所述直线型磁铁的长度方向，所述直线型磁铁的磁场强度自中间向两边逐渐减小；所述制备方法包括如下步骤：(1)准备若干尺寸相同的基体样品，将各样品放置在样品架上，各样品表面位于同一平面并且各样品表面平行于所述靶面；并且，各样品正对所述直线型磁铁，形成直线排列；(2)开启直流磁控溅射设备，在各样品表面沉积CrB2涂层；对各样品表面沉积的CrB2涂层进行性能检测，得到与所需CrB2涂层性能最接近的CrB2样品涂层，该样品在样品架上的放置位置为A位置；(3)保持直流...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪爱英，翁佳豪，柯培玲，张栋，左潇，
申请(专利权)人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所，
类型：发明
国别省市：浙江,33