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本实用新型提供一种导电多晶硅触点的扩散生成设备，包括扩散炉管，扩散炉管内设有装置控制系统、进出晶圆盒系统、炉体加热系统和气体控制系统，气体控制系统连接至晶圆盒缓存系统，晶圆盒缓存系统用于暂时储放待装载的晶圆盒并包括氮气通入装置、氧气监测装置...
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