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本实用新型提供一种浸润式曝光后移除残留水滴的装置，该装置包括在载台上扫描移动的扫描式液气双相清洁器，清洁器具有喷嘴，喷嘴的喷口包括液体喷口和气体喷口。本实用新型能够减少光刻胶表面的水印缺陷，提高产品良率。...
该专利属于长鑫存储技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过长鑫存储技术有限公司授权不得商用。

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