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本实用新型涉及光刻曝光设备组件装置构造，具体为一种光刻曝光设备，该光刻曝光设备，包括依次设置的用于暂储晶圆的等待区、用于搬移晶圆的机械手臂与用于曝光晶圆的曝光区，在等待区和曝光区之间设置有供机械手臂通行的过渡区风淋室，过渡区风淋室上方设置有...
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