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提供能够抑制气体的蔓延、能够抑制由沉积物的附着引起的颗粒的发生、能够防止形成的膜发生结晶缺陷的成膜装置。供给部(4)具备：第1隔壁(32)；第2隔壁(401)，以规定间隔设置于第1隔壁的下部；第3隔壁(402)，以规定间隔设置于第2隔壁的下...该专利属于纽富来科技股份有限公司;昭和电工株式会社;一般财团法人电力中央研究所所有，仅供学习研究参考，未经过纽富来科技股份有限公司;昭和电工株式会社;一般财团法人电力中央研究所授权不得商用。