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本公开内容提供一种用于基板的真空处理的设备(100)。此设备(100)包括处理真空腔室(110)、维护真空腔室(120)、开口(130)、及磁性闭合布置(140)。开口(130)用于在处理真空腔室(110)及维护真空腔室(120)之间传送材...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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