用于基板的真空处理的设备、用于制造具有有机材料的装置的系统、用于使处理真空腔室和维护真空腔室相互密封的方法制造方法及图纸

技术编号:19874963 阅读:42 留言:0更新日期:2018-12-22 16:43
本公开内容提供一种用于基板的真空处理的设备(100)。此设备(100)包括处理真空腔室(110)、维护真空腔室(120)、开口(130)、及磁性闭合布置(140)。开口(130)用于在处理真空腔室(110)及维护真空腔室(120)之间传送材料沉积源(1000)的至少一部分。磁性闭合布置(140)用于磁性地关闭开口(130)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于基板的真空处理的设备、用于制造具有有机材料的装置的系统、用于使处理真空腔室和维护真空腔室相互密封的方法
本公开内容的实施方式涉及一种用于基板的真空处理的设备、用于制造具有有机材料的装置的系统、及用于使处理真空腔室和维护真空腔室相互密封的方法。本公开内容的实施方式特别涉及在有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)装置的制造中使用的设备、系统和方法。
技术介绍
用于在基板上进行层沉积的技术包括,例如,热蒸发、物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition,PVD)和化学气相沉积(ChemicalVaporDeposition,CVD)。经涂布的基板可使用于多种应用和多种
举例来说,经涂布的基板可以用于有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)装置领域。OLED可以用于制造用于显示信息的电视屏幕、计算机屏幕、移动电话、其它手持装置和类似装置。OLED装置,例如是OLED显示器,可以包括位于都沉积在基板上的两个电极之间的一层或多层有机材料。OLED装置可包括例如在处理设备的真空腔室中蒸发的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于基板的真空处理的设备,包括:处理真空腔室及维护真空腔室;开口,用于在所述处理真空腔室及所述维护真空腔室之间传送材料沉积源的至少一部分;以及磁性闭合布置,用于磁性地关闭所述开口。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于基板的真空处理的设备,包括:处理真空腔室及维护真空腔室;开口,用于在所述处理真空腔室及所述维护真空腔室之间传送材料沉积源的至少一部分;以及磁性闭合布置,用于磁性地关闭所述开口。2.根据权利要求1所述的设备,进一步包括密封装置,用于关闭所述开口。3.根据权利要求2所述的设备,其中所述密封装置附接(attach)至所述材料沉积源。4.根据权利要求1-3中任一项所述的设备,其中所述磁性闭合布置包括:一个或多个第一永磁体;一个或多个第二永磁体;以及磁体装置,用于改变所述一个或多个第一永磁体的磁化(magnetization)。5.根据权利要求4所述的设备,其中所述一个或多个第一永磁体包括软磁性材料(softmagneticmaterial)或半硬磁性材料(semi-hardmagneticmaterial),其中所述一个或多个第二永磁体包括硬磁性材料(hardmagneticmaterial)。6.根据权利要求4或5所述的设备,其中所述磁体装置包括绕组(winding),所述绕组至少部分地围绕所述一个或多个第一永磁体而设置。7.根据权利要求4-6中任一项所述的设备,其中所述一个或多个第一永磁体的磁化方向通过提供给所述磁体装置的电脉冲是可切换的,其中所述一个或多个第一永磁体的极性通过所述电脉冲是可逆的(reversible)。8.根据权利要求1-7中任一项所述的设备,其中所述磁性闭合布置设置在所述开口处。9.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员:塞巴斯蒂安·巩特尔·臧安德烈亚斯·索尔
申请(专利权)人:应用材料公司
类型:发明
国别省市:美国,US

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