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本实用新型公开了一种真空腔室腔内升降机构，其对称安装于真空腔室的底部四个角，并通过密封套、O型圈一、Y型密封圈、O型圈二、升降轴和真空腔室共同形成一个良好的密封环境，使外部气体无法进入真空腔室，气缸在驱动气体的推动下实现上下动作，从而带动升...
该专利属于常州比太黑硅科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过常州比太黑硅科技有限公司授权不得商用。

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