专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
中国科学院半导体研究所
>
肖特基二极管及制备方法技术
>技术资料下载
下载肖特基二极管及制备方法的技术资料
文档序号:19782028
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明一种肖特基二极管,包含:一重掺杂的N型SiC衬底;一轻掺杂的N型SiC层,其生长在重掺杂的N型SiC衬底上;一非掺杂的SiC层,其生长在轻掺杂的N型SiC层上;一石墨烯层,其是在非掺杂的SiC层上高温热解生成的;一欧姆接触电极,其制作...
该专利属于中国科学院半导体研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院半导体研究所授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。