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本实用新型公开了一种场效应晶体管及装置。所述场效应晶体管包括源极、漏极以及沟道区,所述源极与漏极之间经沟道区连接,所述沟道区上设置有作为晶体管输入极的栅极,所述栅极与沟道区之间设置有介质层,所述晶体管的输出极至少局部设于所述沟道区内或与所述...该专利属于中国科学院宁波材料技术与工程研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院宁波材料技术与工程研究所授权不得商用。
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本实用新型公开了一种场效应晶体管及装置。所述场效应晶体管包括源极、漏极以及沟道区,所述源极与漏极之间经沟道区连接,所述沟道区上设置有作为晶体管输入极的栅极,所述栅极与沟道区之间设置有介质层,所述晶体管的输出极至少局部设于所述沟道区内或与所述...