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本发明公开一种高性能高温电容器薄膜的规模化制备方法，通过化学气相沉积技术先在铜箔表面沉积一层高绝缘的六方氮化硼薄层；再通过高温热压的方法将六方氮化硼薄层转移至有机电容器薄膜表面；最后通过刻蚀液刻蚀掉复合薄膜表面的铜箔，烘干之后得到成品电容器...
该专利属于清华大学所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学授权不得商用。

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