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本发明公开了一种用于直写式真空蒸发系统的掩模‑基片间距控制系统。所述间距控制结构包括：基座；压电陶瓷Z轴移动平台，所述压电陶瓷Z轴移动平台位于基座下方中心部，与基座固接；掩模基座，所述掩模基座位于所述压电陶瓷移动平台的上方，与压电陶瓷移动平...
该专利属于清华大学所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学授权不得商用。

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