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LDMOS静电保护器件制造技术
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文档序号:19348829
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本发明提供一种LDMOS静电保护器件,包括衬底,衬底上设有深N阱,深N阱内从左到右依次设有第一P阱、第三N+注入区、第三P+注入区和第四N+注入区,第一P阱内从左到右依次设有第一P+注入区、第一N+注入区、第二N+注入区和第二P+注入区;第...
该专利属于湖南大学所有,仅供学习研究参考,未经过湖南大学授权不得商用。
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