温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型公开了一种基板处理装置。本实用新型涉及的基板处理装置使基板上的物质气化或干燥，该基板处理装置包括：本体(100)，包括用于提供基板处理空间的腔室(101)；以及发热部(200)，用于加热腔室(101)内部，其中，本体(100)的下...
该专利属于泰拉半导体株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过泰拉半导体株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。