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本实用新型公开了一种聚氨酯研磨垫，涉及抛光技术领域。包括表面设有沟槽的抛光层，沟槽截面的底部为弧形，弧形表面上布设有润滑涂层，润滑涂层的厚度为1～1000nm。本实用新型在弧形沟槽底部设置润滑涂层，有利于沟槽底部抛光液的流动，使废料更容易随...
该专利属于湖北鼎汇微电子材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过湖北鼎汇微电子材料有限公司授权不得商用。

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