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本发明揭示用于选择适用于缺陷检验的光学模式的方法及系统。一种方法可包含：利用一组光学模式来扫描特定类型的全堆叠晶片以获得一组全堆叠晶片图像；及基于由所述组全堆叠晶片图像指示的潜在所关注缺陷的位置来逆向处理所述全堆叠晶片以产生经逆向处理晶片，...
该专利属于科磊股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过科磊股份有限公司授权不得商用。

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