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本发明提供了一种存储器、其制造方法及半导体器件，在进行刻蚀以在单元区域形成位线前，就通过保护层对位线插塞(的侧面)进行保护，由此刻蚀形成位线时，虽然单元区域和外围区域的刻蚀深度不同，但不会对单元区域中的位线插塞产生侧刻蚀，从而避免了位线插塞...
该专利属于睿力集成电路有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过睿力集成电路有限公司授权不得商用。

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